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MPCVD鉬基片臺(tái)

MPCVD鉬基片臺(tái)是微波等離子體化學(xué)氣相沉積(MPCVD)常用的沉積基板。

MPCVD鉬基片臺(tái)是微波等離子體化學(xué)氣相沉積(MPCVD)常用的沉積基板。沉積基板在微波等離子體化學(xué)氣相沉積的整套反應(yīng)中，起到承載化學(xué)氣相沉積反應(yīng)物的作用。MPCVD方法已成為穩(wěn)定生長(zhǎng)純度高、均勻性強(qiáng)、大尺寸的金剛石顆粒和金剛石膜的主流制備技術(shù)，由CH4與H2等多種氣體經(jīng)過(guò)放電、等離子化，最后沉積到基板形成金剛石顆?；蚪饎偸?。


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